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中國的光刻機之路還很長

文章出处:新聞中心 責任編輯:東莞市BG大游(中国)唯一官方网站電子科技有限公司 發表時間:2021-02-01
  

?阿斯麥的EUV光刻機每年産能有限,到2021年,累計出貨量才剛突破百台。這些光刻機有一半在台積電手裏,另一半集中在英特爾、三星等大廠手中。三家公司2012年沒有白給阿斯麥投錢。而中國大陸,沒有一台EUV。

中芯國際剛完成7nm技術的開發,要到2021年4月才可以進入風險量産;而擁有EUV光刻機的台積電,已經實現5nm芯片的量産,且2021年第一季度將進入3nm風險量産。而中國唯一一家能生産光刻機上海微電子,其最先進的光刻機能生産90nm芯片,這種制程無法滿足當前手機、電腦等消費電子産品的需求。

芯片

光刻機最難的是光源、晶圓曝光台、對准系統和鏡頭。國産光刻機涉及幾十個學科的頂尖難題,需要將這些難題都鑽研一遍。同時還得找到頂級的供應商。阿斯麥90%的零部件來自外部采購,但這些零部件都是阿斯麥和供應商共同研發的,專利在阿斯麥手上。其實20世紀60年代,中國也曾研究過光刻機,但在“造不如買”思想下,放棄了光刻機領域的研發。

回顧阿斯麥成爲霸主的過程:高遠的頂層規劃,困境中的自身堅持,以及市場和技術的平衡,萬中無一的運氣,這些因素缺一不可。追趕成了中國的必選項,技術差距雖大,但星光猶在。

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