20世纪60年代和70年代初，美国一直是芯片市场的霸主。但到80年代，日本凭借DRAM成功崛起。美国的光刻机产业随着半导体主要市场的变化遭受重击——GCA落寞，尼康壮大。为了继续巩固美国芯片市�。�1997年，英特尔和美国能源部牵头成立了的EUV LLC联盟，希望能研发出EUV(極紫外線)光刻機，重拾半導體制霸權。這個聯盟有美國能源部及其下屬三大國家實驗室，還有英特爾和摩托羅拉、AMD、IBM等科技公司，阿斯麥也成功入夥。作爲回報，阿斯麥將替美國把光刻機龍頭的桂冠從尼康頭上摘下。

2004年，阿斯麥和台積電合作一年後，推出了第一台浸潤式光刻機樣機，波長能達到132nm，率先攻克芯片制程卡頓，並一舉拿下IBM和台積電等大客戶的訂單。尼康雖然很快也推出了幹式微影光刻機産品，但其光源只能做到157納米，顯然阿斯麥更勝一籌。到2007年，阿斯麥的光刻機市場份額已達到60%，首次超過尼康。

而真正讓阿斯麥封神的，還是獨門的EUV（極紫外線）光刻機。經過10年的研發，EUV聯盟的幾百位科學家努力，及52.29億歐元投入，阿斯麥將EUV做到可量産，成爲全球唯一一家具備推出光刻機産品的公司。尼康其實也懂EUV技術，但他們的技術也只能在實驗室裏走起來。自此，阿斯麥穩穩成爲半導體光刻機領域的霸主，無可撼動。

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